国产虚拟仿真创作平台VEStudio3.3正式版发布

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国产虚拟仿真创作平台VEStudio3.3正式版发布
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修复BUG：
- i( S5 J3 u0 p: D' j4 w1、修改了若干发现的已知BUG。
* m0 k* Z- r6 w* F. M9 n1 {2、默认网格轴线对不齐，修改了网格的排列。
6 |  Z, S! s3 O7 A% F2 R3、DAE导入不能正确复制纹理及N个若干导入问题。
4、无故生成海量景观高度图的现象。
5、可编辑地形一些保存问题。
6、标准物体运行模型闪烁脚本报错[网友cl$_$提出]。
7、可编辑地形阴影偏移问题，这个问题居然花了很长时间。
8、修复纹理优化不能转换一些杂乱规范的材质纹理。
完善：
5 m" E/ u3 E8 F+ ?; M1、属性编辑器具有了记忆功能，使得平台编辑更方便，具有了极好的易用性。
7 e: Z6 w7 j' M6 f' q% p& O3 O2、属性编辑具有了简化功能，复杂的参数可以藏起来。让编辑来得更简单更智能。
3、进一步美化界面。
4、完善GI渲染，次世代效果更突出。
% s" I  \! s) S: l+ Y. C& d5、进一步完善了可编辑地形。
6、进一步完善海量草的效果。
7、海量树木模块做了很大程度修改，不但支持了渐变切换、远近距离LOD、次世代效果、风力模拟等等一系列特性。
增加：
+ e4 Q; W8 N1 w8 O1、脚本运行出错输出部分控制台调试信息。
5 H1 K1 n; H: B  S% I' ?2、材质添加透明纹理通道坐标选择可以进行一些特殊材质的制作。
. D; \* }/ {- }  D* Z3 O3、VES开始加入风力支持了，用来制作树木的摆动和旗帜的飘动等风力动画。
& y( g% b+ A/ x4、支持透明阴影投射开关选项。

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