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发表于 2011-3-18 21:49:26 | 显示全部楼层 |阅读模式
扩散                    平面光刻工艺                       离子注入( D) F+ G1 n! y7 E9 A+ p  f! t

, }; o# @  \1 Y( n5 c5 @, l7 M图一.5台机器,6个步骤的微型FAB工艺流程示意图
! D0 c* C" t3 p. W$ f" F+ w' l( y/ x0 J, b+ r( H2 B& m
微型FAB包括在3种不同的机器组,6个步骤的工艺流程和2种产品晶片和试验晶片。在每个机器组,步骤4,5,6处都是一个再进入入口。机器组包括扩散—C1(2个机器Ma和Mb),离子注入-C2(2个机器Mc和Md)和平面光刻技术-C3(一个机器Me)。
3 V/ C4 K( ]3 w  ?求大家用extendsim7仿真谢谢邮箱641395644@163.com
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