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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面9 t/ x# U6 Y" n' ~( S+ M

8 Q: G  X7 C1 |3 Q" D* u+ H/ L' G效果
9 I# |/ E9 c1 |; X& Y2 x: |
, ~3 w2 l( Q! ~7 s9 S4 o真实反射
4 t2 x+ X* A1 H
9 t3 _8 e! U9 g7 v6 w
& W, T* c: |( v3 H0 S3 r/ A4 J   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。) y$ O/ F/ I/ Z# s  V
: e' H1 p! Z! {5 u; ?
SP2更新说明——5 L2 l2 T# g: a- c9 I
增加:
# j7 l- m8 i, P7 d$ G简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供
3 V7 Y  \5 w6 Z' ?2 o/ y! U修改列表:3 _6 E* Z+ A: {. v
1、视点转换在任何导航模式下生效;! {; f& ~6 W0 V0 C4 z: n
2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;' [# m* E: Z$ y
3、天体解除了程序雾效;
1 _1 g! m8 k3 S; L4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;; u7 e- n3 P- D3 n3 [
5、提高模型库加载效率;# ~( N  T: V8 G2 E. w( D
6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;* |9 v( y5 H! S
7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;/ z1 k, u' O$ {+ q5 p1 F
8、层操作、编辑功能脚本支持;  W) _+ o9 v5 R; d4 I) ?2 |
9、地板反射支持凹凸;2 _) {9 Z! x" S/ q! x2 D- @: v
10、移除了编辑器点击右键也选中物体;
+ Z1 F# q8 M5 M  p8 b8 p! Q11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;+ f/ s2 }  r+ U% {+ R
* m( K, R( I5 ~# G
注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。9 s3 @4 D* {' ~6 p0 o) p: y9 x- x
$ U9 N& V3 p5 Z
VEStudio2.2正式版下载:
' V( @4 Y( ~: K5 r! i8 k2 dhttp://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe : e3 F9 m' T& E& {0 w
sp2下载:
8 x" Y$ j% D3 U2 D+ W/ \; Fhttp://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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